特許
J-GLOBAL ID:201003039640821426
光断層画像測定装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
田村 敬二郎
, 小林 研一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-278512
公開番号(公開出願番号):特開2010-104514
出願日: 2008年10月29日
公開日(公表日): 2010年05月13日
要約:
【課題】簡素な構成であって、広範囲なプローブ個体ばらつきに対応でき、しかも測定のための調整が容易である光断層画像測定装置を提供する。【解決手段】複数のプローブ10を取り替えて使用するとき、各プローブ10毎の長さのばらつきによる測定光L1および反射光L3の光路長にばらつきが生じた場合であっても、本実施の形態によれば測定対象Sからの断層信号が複数生じるため、光路体OPSの光路長を一体で微調整するだけでいずれかの断層画像を迅速に且つ容易に捉えることができる。【選択図】図9
請求項(抜粋):
測定対象の光断層画像を取得する本体に、測定光を測定対象まで導波するプローブを着脱可能に取り付けて測定を行う光断層画像測定装置であって、
前記本体が、
低コヒーレンス光を射出する光源と、
該光源から射出された前記低コヒーレンス光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
複数の反射部を備え、前記光分割手段により分割された前記参照光をそれぞれの反射部で反射することにより、前記参照光に異なる光路長を与える光路体と、
前記プローブから前記測定光が前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と、前記光路体の反射部で反射された前記参照光とを合波する合波手段と、
該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、を有するものであり、前記光路体は、前記複数の反射部による参照光の反射位置を変更する変更手段を備えることを特徴とする光断層画像測定装置。
IPC (4件):
A61B 1/00
, G01N 21/17
, G01B 9/02
, G01B 11/24
FI (4件):
A61B1/00 300D
, G01N21/17 630
, G01B9/02
, G01B11/24 D
Fターム (51件):
2F064AA09
, 2F064EE01
, 2F064FF01
, 2F064FF03
, 2F064GG13
, 2F064GG22
, 2F064GG24
, 2F064GG41
, 2F064GG44
, 2F064GG52
, 2F064GG63
, 2F064HH01
, 2F064JJ05
, 2F064KK04
, 2F065AA52
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065GG07
, 2F065JJ01
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL24
, 2F065LL62
, 2F065PP01
, 2F065UU03
, 2F065UU07
, 2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF01
, 2G059FF08
, 2G059GG01
, 2G059GG08
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059LL01
, 4C061CC06
, 4C061FF40
, 4C061FF46
, 4C061FF47
, 4C061HH51
引用特許:
出願人引用 (7件)
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光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-031138
出願人:フジノン株式会社
-
光イメージング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-374702
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-268416
出願人:富士フイルム株式会社
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審査官引用 (7件)
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光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-268416
出願人:富士フイルム株式会社
-
光学測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-073917
出願人:興和株式会社
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光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-031138
出願人:フジノン株式会社
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