特許
J-GLOBAL ID:201003041774221276

連続処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-077435
公開番号(公開出願番号):特開2010-227805
出願日: 2009年03月26日
公開日(公表日): 2010年10月14日
要約:
【課題】被処理物の分解が十分に進むまで反応器内に滞留させることが可能な連続処理装置を提供する。【解決手段】被処理物3と流体4を筒型の反応器1の一端に連続的に供給して被処理物3を超臨界もしくは亜臨界の流体4で分解し、その分解生成物を含む流体4を前記反応器1の他端から連続的に取り出して冷却部2で冷却して回収する連続処理装置において、前記反応器1は、流体4が上向流を形成する流路を有し、その流路の下流側の断面積が上流側の断面積よりも大きくなるように構成され、かつ、反応器入口部11は、分解前の被処理物3が浮上しないような流速で流体4が流れるようにした断面積を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理物と流体を筒型の反応器の一端に連続的に供給して被処理物を超臨界もしくは亜臨界の流体で分解し、その分解生成物を含む流体を前記反応器の他端から連続的に取り出して冷却部で冷却して回収する連続処理装置において、 前記反応器は、流体が上向流を形成する流路を有し、その流路の下流側の断面積が上流側の断面積よりも大きくなるように構成され、かつ、反応器入口部は、分解前の被処理物が浮上しないような流速で流体が流れるようにした断面積を有することを特徴とする連続処理装置。
IPC (2件):
B01J 3/00 ,  C08J 11/14
FI (2件):
B01J3/00 A ,  C08J11/14
Fターム (14件):
4F401AA27 ,  4F401AB06 ,  4F401BA06 ,  4F401BA09 ,  4F401CA08 ,  4F401CA10 ,  4F401CA11 ,  4F401CA14 ,  4F401CB14 ,  4F401CB34 ,  4F401CB35 ,  4F401DA16 ,  4F401EA77 ,  4F401FA09Y
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る