処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：亀谷美明 , 金本哲男 , 萩原康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-163101
公開番号（公開出願番号）：特開2010-245564
出願日： 2010年07月20日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：

【課題】処理装置内を真空にしても載置台が傾くことのない処理装置を提供すること。【解決手段】チャンバー内に処理ガスを導入するとともに高周波電力を印加してプラズマを形成し,被処理体にプラズマ処理などの所定の処理を行うプラズマ処理装置に,被処理体を載置する載置台と,載置台を保持する載置台固定部とを設け,載置台固定部は載置台固定部の上下にそれぞれベローズを配置し,載置台がチャンバーに対して水平に支持されるようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理容器内で被処理体に所定の処理を行う処理装置であって, 前記処理容器内に配置され,前記被処理体を載置する載置台と, 前記載置台に接続され,前記載置台を支持する載置台支持体と, 前記載置台支持体を支持し,前記処理容器内で前記載置台を上下動自在に支持する載置台固定部と, 前記載置台支持体の下部と前記載置台固定部の上部との間に配置され,前記載置台支持体と前記載置台固定部との間の熱の移動を抑制する支持固定部と, 前記載置台固定部の上下にそれぞれ気密に配置され,前記載置台の傾きを吸収して前記載置台の水平状態を保持するものであり,伸縮可能な蛇腹状の円筒形状に形成されたベローズである水平保持部材と, 前記載置台固定部に連結され,前記載置台固定部を上下動させる載置台駆動機構と, 前記各水平保持部材それぞれの内部空間である中空部と, 前記載置台固定部の下方に設けられ,前記処理容器を排気するための排気口および当該排気口に連通されたラフ引き排気口を含む下部排気口フランジと, 前記載置台固定部内部に形成され,前記各水平保持部材の中空部を連通させ前記処理容器内を排気するための連通孔と, を備え, 前記載置台駆動機構は,リニアレールと,前記リニアレールに沿って前記載置台固定部を支持して上下方向に案内する案内部材と,前記案内部材を介して前記載置台固定部を上下方向に駆動させるためのモータと,を有し, 前記載置台固定部は,前記載置台固定部を固定する案内部材をリニアレールに沿って上下駆動させる前記載置台駆動機構と,前記処理容器に固定されたスライド棒に沿って上下にスライド可能なスライド支持機構と,を有し,前記載置台固定部の側面は,前記案内部材により支持されており, 前記処理容器と前記載置台固定部との間および前記載置台固定部と前記下部排気口フランジとの間に位置する前記水平保持部材の中空部と,前記載置台固定部の連通孔と,を介して前記処理容器内の排気を行い, 前記載置台固定部の内部および前記載置台支持体の内部には,大気開放された空間が形成されていることを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/683 , H01L 21/306

FI (3件)：

H01L21/68 N , H01L21/302 101D , H01L21/302 101G

Fターム (13件)：

5F004AA01 , 5F004BB14 , 5F004BB15 , 5F004BB18 , 5F004CA05 , 5F031CA02 , 5F031HA03 , 5F031HA16 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031MA32 , 5F031NA05 , 5F031PA06

引用特許：

審査官引用 (6件)

真空用移動装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-332461 出願人：株式会社荏原製作所
半導体基板用プラズマ表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-089284 出願人：ローム株式会社
プラズマ強化化学処理反応装置とその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-180459 出願人：ワトキンズ-ジョンソンカンパニー

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