原版データ生成プログラムおよび方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-003996
公開番号（公開出願番号）：特開2010-160442
出願日： 2009年01月09日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：

【課題】目標パターンにより忠実なパターンを基板に形成するために有利な原版データ生成プログラムおよび方法を提供する。【解決手段】原版を照明してパターンを基板に投影する露光装置において用いられる原版を製作するための原版データ生成プログラムは、基板に形成すべき目標パターンを複数の方向グループに分類する分類ステップと、前記複数の方向グループのそれぞれについて、前記照明光学系によって前記投影光学系の瞳に形成される有効光源分布から該当する方向グループに属する目標パターンの解像に適した領域を抽出しその抽出した領域を部分光源として決定する部分光源決定ステップと、複数の部分光源のいずれか1つを照明条件として、原版に配置するべきパターンを決定する処理を前記複数の部分光源のそれぞれについて実行するパターン決定ステップと、前記パターン決定ステップで決定されたパターンを合成する合成ステップとを含む。【選択図】図3A

請求項（抜粋）：

原版を照明光学系によって照明して該原版のパターンを投影光学系によって基板に投影する露光装置において用いられる原版を製作するための原版データをコンピュータに生成させるための原版データ生成プログラムであって、前記コンピュータに、基板に形成すべき目標パターンを複数の方向グループに分類する分類ステップと、前記複数の方向グループのそれぞれについて、前記照明光学系によって前記投影光学系の瞳に形成される有効光源分布から該当する方向グループに属する目標パターンの解像に適した領域を抽出しその抽出した領域を部分光源として決定する部分光源決定ステップと、前記部分光源決定ステップで決定された複数の部分光源のいずれか1つを照明条件として、原版に配置するべきパターンを決定する処理を前記複数の部分光源のそれぞれについて実行するパターン決定ステップと、前記パターン決定ステップで決定されたパターンを合成する合成ステップと、を含む処理を実行させることを特徴とする原版データ生成プログラム。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F1/08 A , G03F1/08 D , H01L21/30 502P

Fターム (3件)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB36

引用特許：

出願人引用 (2件)

コンタクト・ホール・マスクの光学的近接補正設計の方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-007029 出願人：アスムルマスクツールズビー.ブイ.
原版データ作成方法及び原版データ作成プログラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-102942 出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (4件)

ダイポール照明技術とともに用いる配向依存遮蔽
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-305433 出願人：アスムルマスクツールズビー.ブイ.
半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-064363 出願人：富士通株式会社
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-016872 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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