ダイポール照明技術とともに用いる配向依存遮蔽

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-305433
公開番号（公開出願番号）：特開2004-133427
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷する方法を提供すること。【解決手段】パターンに含まれる背景領域を識別する段階と、背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含む垂直構成要素マスクを生成する段階と、背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含む水平構成要素マスクを生成する段階と、X極照明を利用して垂直構成要素マスクを照明する段階と、Y極照明を利用して水平構成要素マスクを照明する段階とを含む。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

ダイポール照明を利用して、垂直配向フィーチャおよび水平配向フィーチャを有するパターンを基板上に印刷するためのマスクを生成する方法であって、前記パターンに含まれる背景領域を識別する段階と、前記背景領域中の解像不可能な水平配向フィーチャを含む垂直構成要素マスクを生成する段階と、前記背景領域中の解像不可能な垂直配向フィーチャを含む水平構成要素マスクを生成する段階とを含む方法。

IPC (2件)：

G03F1/08 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/08 A , H01L21/30 502P

Fターム (3件)：

2H095BA01 , 2H095BB01 , 2H095BB02

引用特許：

審査官引用 (19件)

リソグラフィー方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-297013 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
特開平4-175746
特開平4-218046

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