特許
J-GLOBAL ID：200903072595599470
リソグラフィ投影用パラメータを決める方法、そのためのコンピュータシステムおよびコンピュータプログラム、デバイス製造方法並びにそれによって製造したデバイス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409103
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191981
出願日： 2003年12月08日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】デバイスの製造に使うリソグラフィ投影装置の投影用パラメータ、特に放射線源強度分布、光学的近接補正規則およびプロセスウインドウを簡単なソフトウエアで決定する方法を提供すること。【解決手段】この方法は、結像すべきパターンの複数の形態を選択する工程、この放射線を複数の線源要素に概念的に分割する工程、各線源要素に対して、各選択した形態用のプロセスウインドウを計算し、次に計算したプロセスウインドウの重複を最適化する光学的近接補正規則を決める工程、および、これらのプロセスウインドウの重複および光学的近接補正規則が指定した基準を満たす線源要素を選択する工程、を含む。これらの選択した線源要素が線源の強度分布を形成する。前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置において、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体、
基板を保持するるための基板テーブル、および
パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するための投影システムを含む装置に使うためのパターニング手段用投影ビーム源強度分布および光学的近接補正規則を決めるための方法であって、
該方法が、
結像すべき所望のパターンの複数の形態を選択する工程、
放射線システムの放射線を複数の線源要素に概念的に分割する工程、
各線源要素に対して、各選択した形態用のプロセスウインドウを計算し、且つ計算したプロセスウインドウの重複を最適化する光学的近接補正規則を決める工程、
プロセスウインドウの重複および光学的近接補正規則が指定した基準を満たす線源要素を選択する工程、および
線源強度分布を形成し、選択した線源要素、および光学的近接補正規則についてのデータを出力する工程、を含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516Z
2H095BB01
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046DA01
, 5F046DA02
, 5F046DA11
, 5F046DD06
