特許

J-GLOBAL ID：201003056606135094

インプリントリソグラフィ

発明者： デン ボーフ,アリー,ジェフリー ,  ヘウニンク,アンドレ,ベルナルダス ,  フェルメーレン,ヨハネス,ペトラス,マルティヌス,ベルナルドス ,  スミッツ,パスカル,アントニウス ,  ウイスター,サンダー,フレデリック ,  クルイト-ステージマン,イボンヌ,ウェンデラ ,  デ スチフファート,キャサリヌス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-204211
公開番号（公開出願番号）：特開2010-067969
出願日： 2009年09月04日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：

【課題】インプリントテンプレートに対する基板の位置を決定する方法を記載する。【解決手段】インプリントテンプレートは少なくとも3つの格子を有し、基板は、各インプリントテンプレート格子が関連する基板格子と共に複合格子を形成するように配置された少なくとも3つの格子を有し、これら少なくとも3つのインプリントテンプレート格子と、関連する基板格子とは互いにずれている。本方法は、3つの複合格子で反射される放射の強度を検出すること、及び検出された強度を用いて、ある位置からの基板又はインプリントテンプレートの変位を決定することを含む。【選択図】図2a

請求項（抜粋）：

インプリントテンプレートが少なくとも3つの格子を有し、基板が各インプリントテンプレート格子が関連する基板格子と共に複合格子を形成するように配置された少なくとも3つの格子を有し、前記少なくとも3つのインプリントテンプレート格子と関連する基板格子とが互いにずれている、インプリントテンプレートに対する基板の位置を決定する方法であって、 前記3つの複合格子で反射される放射の強度を検出するステップと、 前記検出された強度を用いて、ある位置からの前記基板又はインプリントテンプレートの変位を決定するステップとを含む、方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502D

Fターム (8件)：

5F046AA28 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FB08 ,  5F046FB10

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 微細加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-370693   出願人：株式会社リコー
• 転写装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-356284   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭62-190725
  
• インプリント方法、インプリント装置およびチップの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-244326   出願人：キヤノン株式会社
• インプリントリソグラフィ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-344038   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-526254   出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
• アラインメントシステムおよびアラインメントシステムと共に使用するためのアラインメントマーク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-326729   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 特開平2-090006