インプリントリソグラフィ

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-344038
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227890
出願日： 2006年12月21日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】インプリントリソグラフィ装置において、テンプレートホルダがかなりのスペースを占領しているので、各インプリントエリアを同時にインプリントするためのインプリントテンプレートを設けるスペースが十分にない。【解決手段】第1テンプレートホルダアレイと、第2テンプレートホルダアレイと、インプリント対象基板を支持するように配された基板テーブルとを有し、第1テンプレートホルダアレイは、基板上に第1パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2テンプレートホルダアレイは、基板上に第2パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2アレイによってインプリントされたパターンは、第1アレイによってインプリントされたパターンの間に散在する、インプリントリソグラフィ装置。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

第1テンプレートホルダアレイと、第2テンプレートホルダアレイと、インプリント対象基板を支持するように配された基板テーブルとを有し、第1テンプレートホルダアレイは、基板上に第1パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2テンプレートホルダアレイは、基板上に第2パターンアレイをインプリントするために使用されるインプリントテンプレートアレイを保持するように配され、第2アレイによってインプリントされたパターンは、第1アレイによってインプリントされたパターンの間に散在する、インプリントリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B

Fターム (16件)：

4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (8件)

磁気記録媒体の製造方法、製造装置、インプリントスタンパ及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-346898 出願人：株式会社東芝
自動位置合わせされた整流素子を用いるナノメートルスケールのメモリデバイスおよびその作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-012672 出願人：ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
単結晶サファイア基板とその製造方法及び半導体発光素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-369679 出願人：京セラ株式会社

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