特許
J-GLOBAL ID:201003062904867995
無機又は無機/有機ハイブリッドフィルムの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 小林 良博
, 出野 知
, 小林 直樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-544299
公開番号(公開出願番号):特表2010-514562
出願日: 2007年12月28日
公開日(公表日): 2010年05月06日
要約:
基材上に無機又はハイブリッド有機/無機層を形成させるための方法であって、金属アルコキシドを蒸発させる工程と、金属アルコキシドを凝縮させて基材上に層を形成させる工程と、凝縮した金属アルコキシド層と水とを接触させて該層を硬化させる工程と、を含む方法を開示する。
請求項(抜粋):
金属アルコキシドを蒸発させる工程と、
前記金属アルコキシドを凝縮させて、前記基材上に層を形成させる工程と、
前記凝縮した金属アルコキシド層と水とを接触させて前記層を硬化させる工程と、
を含む、基材上に無機又はハイブリッド有機/無機層を形成させるための方法。
IPC (3件):
B05D 7/24
, B32B 9/00
, B05D 7/04
FI (4件):
B05D7/24 302Y
, B32B9/00 A
, B05D7/04
, B05D7/24 302P
Fターム (36件):
4D075BB26Z
, 4D075BB56Y
, 4D075BB93Z
, 4D075CB02
, 4D075DA04
, 4D075DB31
, 4D075DC24
, 4D075EB22
, 4D075EB43
, 4D075EB47
, 4D075EC02
, 4D075EC37
, 4F100AA01B
, 4F100AB02B
, 4F100AB10B
, 4F100AB12B
, 4F100AB18B
, 4F100AB21B
, 4F100AB22B
, 4F100AH08B
, 4F100AK01A
, 4F100AK25C
, 4F100AK41
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100EJ08B
, 4F100EJ41B
, 4F100EJ61B
, 4F100GB41
, 4F100GB90
, 4F100HB00
, 4F100JL08B
, 4F100JN06
, 4F100JN18
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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コーティング、並びにそれを製造するための方法及び装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-508290
出願人:ネーデルランドセオルガニサティエフォールトエゲパストナトールヴェテンシャッペリクオンデルゾエクティエヌオー, テクニシェユニベルシテイトアイントホーフェン
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ナノ多孔質シリカ上への気相堆積方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-558547
出願人:アライドシグナル・インコーポレイテッド
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無機薄膜成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-406180
出願人:積水化学工業株式会社
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