特許
J-GLOBAL ID：201003071743608268

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤

発明者：
羽田 英夫

羽田 英夫 について

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内海 義之

内海 義之 について

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瀬下 武広

瀬下 武広 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-228619
公開番号（公開出願番号）：特開2010-061018
出願日： 2008年09月05日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さい(ELマージンが大きく)レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の酸発生剤および当該酸発生剤として有用である化合物の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式(b1)中、Y1は置換基を有していてもよい炭素数1〜4のフッ素化アルキレン基であり、Xは置換基を有していてもよい炭素数3〜30の脂肪族環式基であり、R11’は置換基を有していてもよいアリール基またはアルキル基であり、R3は水素原子またはアルキル基であり、n1は0または1であり、Aは、当該Aが結合した硫黄原子とともに3〜7員環構造の環を形成する2価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 309/12 ,  C09K 3/00 ,  C07D 333/46
FI (7件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C309/12 ,  C09K3/00 K ,  C07D333/46
Fターム (21件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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