感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び樹脂

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-286884
公開番号（公開出願番号）：特開2010-164963
出願日： 2009年12月17日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：

【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足し、更に露光時のアウトガスの問題がない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び、該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に用いられる樹脂を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有し、該イオン性構造部位のカチオンが特定のスルホニウム構造を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び、該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に用いられる樹脂。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(Ia)で表されるカチオンを含有し、活性光線又は放射線の照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有する繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 212/14

FI (4件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F212/14

Fターム (54件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AH25 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ08Y , 2H125AJ14Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ64Y , 2H125AJ66Y , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB00R , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA15Q , 4J100BA56R , 4J100BB17R , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC09Q , 4J100BC43Q , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-273766 出願人：信越化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-351839 出願人：住友化学株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-243850 出願人：富士フイルム株式会社

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