特許
J-GLOBAL ID：201003076750691741
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-111959
公開番号（公開出願番号）：特開2010-272863
出願日： 2010年05月14日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：
【課題】光学エンコーダシステムへのファイバによって基板テーブルの力学的挙動および熱的挙動が悪化することがない、改良された光学エンコーダシステムを備えるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置が光学エンコーダ測定システムを備え、このシステムは、照射ビーム104を第1スケール5に向けて送る照射システムを有する。このシステムは、照射ビームによる照射で第1スケール5から回折された1次回折ビーム9を第2スケール11に向けて送るための光学部品7と、第2スケール11に対する第1スケール5の位置を測定するために、第2スケール11上での1次回折照射ビーム9の干渉および第2の回折後に2次回折ビーム15を検出するディテクタ131とを有する。【選択図】図2b
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整する照明システムと、
パターン付き放射ビームを形成するように放射ビームにその横断面内でパターンを与えることができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影する投影システムとを含むリソグラフィ装置であって、
照射ビームを第1スケールに向けて送る照射システムと、
前記照射ビームによる照射で前記第1スケールから回折された1次回折ビームを第2スケールに向けて送るための光学部品と、
前記第2スケールに対する前記第1スケールの位置を測定するために、前記第2スケール上での前記1次回折照射ビームの干渉および第2の回折後に2次回折ビームを検出するディテクタとを含む光学エンコーダ測定システムを備える、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G01D 5/38
H01L21/30 516B
, G03F7/20 521
, G01D5/38 A
2F103BA01
, 2F103CA01
, 2F103CA03
, 2F103CA04
, 2F103CA08
, 2F103DA12
, 2F103EA03
, 2F103EA17
, 2F103EC11
, 2F103EC13
, 2F103EC14
, 5F046BA03
, 5F046CC01
, 5F046CC03
, 5F046CC16
, 5F046CC20
, 5F046DB05
, 5F046DC12
