質量分析法に用いられる試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-017027
公開番号（公開出願番号）：特開2010-175338
出願日： 2009年01月28日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：

【課題】マトリックスを用いない場合においても、amolオーダーの量の試料を分析可能な試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置とを提供する。【解決手段】レーザー光の照射により試料をイオン化して質量分析するときに、試料を保持するために用いられ、レーザー光の照射を受ける表面に開口する複数の細孔が繰り返し形成されている試料保持面を備えている試料ターゲットであって、上記試料保持面の表面が金属および/または半導体で被覆され、当該金属および/または半導体で被覆された試料保持面の表面がさらに表面処理剤で被覆されており、隣接する各細孔の間隔が1nm以上30μm未満であり、金属および/または半導体で被覆される前において、当該細孔の細孔径が8nm以上5μm未満であり、当該表面処理剤で被覆された試料保持面における液滴の接触角は60°以上180°未満である。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

レーザー光の照射により試料をイオン化して質量分析するときに、試料を保持するために用いられ、レーザー光の照射を受ける表面に開口する複数の細孔が繰り返し形成されている試料保持面を備えている試料ターゲットであって、上記試料保持面の表面が金属および/または半導体で被覆され、当該金属および/または半導体で被覆された試料保持面の表面がさらに表面処理剤で被覆されており、隣接する各細孔の間隔が1nm以上30μm未満であり、金属および/または半導体で被覆される前において、当該細孔の細孔径が8nm以上5μm未満であり、当該表面処理剤で被覆された試料保持面における液滴の接触角は60°以上180°未満の範囲にあることを特徴とする試料ターゲット。

IPC (1件)：

G01N 27/62

FI (1件)：

G01N27/62 F

Fターム (4件)：

2G041CA01 , 2G041DA03 , 2G041EA01 , 2G041JA08

引用特許：

出願人引用 (4件)

ナノ構造薄膜およびその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-532463 出願人：ナノシス・インク.
マイクロチップ並びにその製造方法及びそれを用いた検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-244929 出願人：松下電器産業株式会社
特許第6288390号

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審査官引用 (4件)

ナノ構造薄膜およびその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-532463 出願人：ナノシス・インク.
マイクロチップ並びにその製造方法及びそれを用いた検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-244929 出願人：松下電器産業株式会社
特許第6288390号

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引用文献：

出願人引用 (3件)

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