特許
J-GLOBAL ID：201003080700602800

ウエーハ欠陥検査装置

発明者：
中村 学

中村 学 について


出願人/特許権者：
日本エレクトロセンサリデバイス株式会社

日本エレクトロセンサリデバイス株式会社 について


代理人 (3件)： 後藤 政喜 ,  藤井 正弘 ,  飯田 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-192829
公開番号（公開出願番号）：特開2010-008392
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】 撮像手段として一般的に使用されるエリアセンサカメラでは、撮像範囲全体を単位領域に分割して撮像を行うために、検査時間が長くなり検査工程の高速化に対応することができないという問題がある。また、赤外光光源を用いて検査対象の低抵抗ウエーハを照明した場合、ウエーハの比抵抗を考慮して赤外光照明を選択する必要があり、その設定に時間を要するという問題がある。【解決手段】 赤外光に感度を有するラインセンサアレイを撮像素子として用いることにより、ウエーハ全体を同一の検査条件で行うことを可能にするとともに検査工程の高速化に対応可能なウエーハ検査装置を実現する。また、ウエーハの比抵抗の値を取得する手段を設けることにより、取得した比抵抗の値に応じた照明手段の照度に設定することにより欠陥の撮像に適切な照明を得ることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコンウエーハの表面に対峙させて設けた赤外光照明手段と、 前記赤外光照明手段の赤外光に感度を有するラインセンサアレイを備える撮像手段と、 前記撮像手段の画像から前記シリコンウエーハの表面あるいは内部にある欠陥を検出する画像処理装置と から構成されるウエーハ欠陥検査装置であって、 前記赤外光照明手段は前記シリコンウエーハの比抵抗の値に応じて照度を調節することを特徴とするウエーハ欠陥検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 N
Fターム (21件)：
2G051AA51 ,  2G051AB03 ,  2G051AB04 ,  2G051AB06 ,  2G051BA06 ,  2G051BB01 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB02 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA08 ,  4M106CA10 ,  4M106CA45 ,  4M106CA46 ,  4M106CB19 ,  4M106DB08 ,  4M106DB19 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ19
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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