特許
J-GLOBAL ID：201003083122599310

熱処理装置用の構成部品及び熱処理装置

発明者：
石井 勝利

石井 勝利 について

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石田 義弘

石田 義弘 について

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原田 豪繁

原田 豪繁 について

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古屋 治彦

古屋 治彦 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-014645
公開番号（公開出願番号）：特開2010-171343
出願日： 2009年01月26日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：
【課題】高誘電体膜の成膜プロセスにて、表面に形成される膜からの応力の影響を受けにくい熱処理装置用の構成部品等を提供する。【解決手段】複数の基板Wを基板保持具41に互いに並列に保持して反応容器2内に搬入し、この反応容器2を囲むように設けられた加熱手段3により加熱しながら処理ガスを供給して基板Wに金属酸化物からなる高誘電体膜を成膜する熱処理装置に用いられ、前記反応容器2内に設けられる装置用の構成部品の材質が、チタンを主成分とする金属製である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の基板を基板保持具に互いに並列に保持して反応容器内に搬入し、この反応容器を囲むように設けられた加熱手段により反応容器内を加熱しながら当該反応容器内に処理ガスを供給して基板に金属酸化物からなる高誘電体膜を成膜する熱処理装置に用いられ、前記反応容器内に設けられる装置用の構成部品であって、 その材質がチタンを主成分とする金属であることを特徴とする熱処理装置用の構成部品。
IPC (3件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/458
FI (3件)：
H01L21/31 B ,  C23C16/455 ,  C23C16/458
Fターム (36件)：
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA10 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA46 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030HA01 ,  4K030KA04 ,  4K030KA39 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F045AA15 ,  5F045AB31 ,  5F045AC03 ,  5F045AC08 ,  5F045AC09 ,  5F045AC11 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AE21 ,  5F045BB14 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045EB03 ,  5F045EE19 ,  5F045EF03 ,  5F045EF11 ,  5F045EK06 ,  5F045EM09
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-084150   出願人：株式会社日立国際電気
  • 成膜装置用部品および真空成膜装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-145674   出願人：真空冶金株式会社
  • 大気開放型化学気相析出装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-149200   出願人：トッキ株式会社, 株式会社オプトクエスト, 日立金属株式会社, 国立大学法人長岡技術科学大学
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審査官引用 (2件)

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