特許

J-GLOBAL ID：201003083868000146

スルホンアミド物質を含む組成物およびフォトリソグラフィー方法

発明者： ダヤン・ワン ,  チュンイ・ウー ,  ジョージ・ジー・バークレー ,  チャン-バイ・スー
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-263135
公開番号（公開出願番号）：特開2010-152344
出願日： 2009年11月18日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：

【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規のフォトレジスト組成物が提供される【解決手段】本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、スルホンアミド置換を有する1種以上の物質を含む。特に好ましい本発明のフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸流体中にレジスト物質が漏出するのを低減することを示すことができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)(i)1種以上の樹脂、 (ii)光活性成分、および (iii)前記1種以上の樹脂と実質的に非混和性であって、スルホンアミド置換を含む1種以上の物質; を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し;並びに (b)フォトレジスト組成物を活性化する放射線でフォトレジスト層を液浸露光する; ことを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。

IPC (5件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H096DA04 ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AM22P ,  2H125AM91P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN68P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-331780   出願人：東京応化工業株式会社
• 樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-157226   出願人：富士フイルム株式会社
• イマージョンリソグラフィー用ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-368436   出願人：株式会社ハイニックスセミコンダクター
• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-271429   出願人：信越化学工業株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-311461   出願人：JSR株式会社
• ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-277710   出願人：富士フイルム株式会社