特許
J-GLOBAL ID：201003083967178224

インプリント装置及びインプリント方法

発明者：
春見 和之

春見 和之 について

, 
稲 秀樹

稲 秀樹 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 藤元 亮輔 ,  水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-203611
公開番号（公開出願番号）：特開2010-040879
出願日： 2008年08月06日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
【課題】スループット、保守性及び経済性に優れたインプリント装置を提供する。【解決手段】光硬化型のナノインプリント装置は、モールドを基板上の樹脂に押し付ける押印ステーション120と、紫外線を照射する硬化ユニット140と、を別個のユニットとして備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンを有する型を基板上の樹脂に押圧し、前記パターンを前記基板に転写するインプリント装置であって、 前記型を前記基板上の前記樹脂に押圧する押圧ユニットと、 前記押圧ユニットとは異なる位置に設けられ、光を前記樹脂に照射して前記樹脂を硬化させる硬化ユニットと、 前記押圧ユニットにより前記型が押圧される位置から前記硬化ユニットにより前記光が照射される位置まで前記型及び前記基板を移動し、前記硬化ユニットにより前記光が照射される位置から前記型が離される位置に前記型及び前記基板を移動する移動部と、 を有することを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (16件)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30 ,  5F046DC04 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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