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特許
J-GLOBAL ID:201003087011554886

電解質膜、その製造方法、及びそれを含んでなる物品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 荒川 聡志 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-157370
公開番号(公開出願番号):特開2010-092839
出願日: 2009年07月02日
公開日(公表日): 2010年04月22日
要約:
【課題】機械的安定性及び熱安定性の向上したプロトン交換膜を提供する。【解決手段】ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリハライド化合物及びアルカリ金属水酸化物を含む混合物を形成する段階と、多孔質基材上に該混合物を配設する段階と、該混合物を反応させて架橋プロトン伝導体を生成する段階と、プロトン伝導体をスルホン化する段階とを含んでなる電解質膜の製造方法、及びその製造方法を用いた多孔質基材と、多孔質基材の細孔中に配設されたスルホン化架橋プロトン伝導体とを含んでなる物品。【選択図】なし
請求項(抜粋):
電解質膜の製造方法であって、 ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリハライド化合物及びアルカリ金属水酸化物を含む混合物を形成する段階と、 多孔質基材上に該混合物を配設する段階と、 該混合物を反応させて架橋プロトン伝導体を形成する段階と、 プロトン伝導体をスルホン化する段階と を含んでなる方法。
IPC (5件):
H01B 13/00 ,  H01M 8/02 ,  H01B 1/06 ,  C08G 75/23 ,  C08J 9/42
FI (5件):
H01B13/00 Z ,  H01M8/02 P ,  H01B1/06 A ,  C08G75/23 ,  C08J9/42
Fターム (22件):
4F074AA39 ,  4F074CC02W ,  4F074CE04 ,  4F074CE16 ,  4F074CE43 ,  4F074CE93 ,  4F074DA49 ,  4F074DA59 ,  4J030BA09 ,  4J030BA49 ,  4J030BB66 ,  4J030BD03 ,  4J030BF13 ,  4J030BG05 ,  4J030BG23 ,  4J030BG34 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026EE19
引用特許:
審査官引用 (2件)

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