特許
J-GLOBAL ID：201003087662072430

生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム

発明者：
川島 美代子

川島 美代子 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-181984
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020187
出願日： 2008年07月11日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】微細なパターンを精度よく形成する有効光源及び原版のデータを生成する生成方法を提供する。【解決手段】光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる有効光源及び原版のデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、原版のデータを決定した後、決定された原版のデータの回折光分布に基づいて有効光源を決定することで、前記露光装置に用いられる有効光源及び原版のデータを生成する生成方法を提供する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる有効光源及び原版のデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、 前記基板に形成すべき目標パターンと、有効光源と、前記露光装置に設定可能な露光パラメータとを設定する設定ステップと、 設定されている目標パターンと、有効光源と、露光パラメータとに基づいて、前記投影光学系の像面に形成される空中像を算出する第1の空中像算出ステップと、 前記第1の空中像算出ステップで算出された空中像に基づいて、前記原版のパターンを決定するパターン決定ステップと、 前記パターン決定ステップで決定されたパターンに基づいて、前記投影光学系の瞳面に形成される回折光分布を算出する回折光分布算出ステップと、 前記回折光分布算出ステップで算出された回折光分布と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて新たな有効光源を決定して、前記設定ステップで設定された有効光源を前記新たな有効光源に変更する有効光源決定ステップと、 前記パターン決定ステップで決定された前記原版のパターンと、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて、前記基板に形成される空中像を算出する第2の空中像算出ステップと、 前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像を評価して評価基準を満たすかどうかを判定する判定ステップと、 前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たすと判定された場合に、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源を前記露光装置に用いられる有効光源として生成し、前記パターン決定ステップで決定されたパターンのデータを含むデータを前記原版のデータとして生成する生成ステップと、 を有することを特徴とする生成方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P
Fターム (3件)：
2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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