特許
J-GLOBAL ID：200903041897355152
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-295909
公開番号（公開出願番号）：特開2006-114898
出願日： 2005年10月11日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】複数なパターンを十分な寛容度で画像形成することのできるリソグラフィ装置と方法を提供すること。【解決手段】照明構成、マスク透過、およびマスク・バイアスを適当に選択することにより、接触孔部の複雑なパターンを、k1=0.40またはそれ以下の最小ハーフピッチで製造するための十分なラチチュードで画像形成することができる。ある実施例は、リソグラフィ装置による基板上へのマスク・パターンの画像を転写する方法を提供する。この方法は、軸上成分および軸外し成分を含む照明構成により減衰位相シフト・マスクのマスク・パターンを照明する段階であって、照明の軸外し成分が瞳の縁部近くに延びる環状照明である段階と、基板上に照明したマスク・パターンの画像を投影する段階とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置により基板上にマスク・パターンの画像を転写するための方法であって、該リソグラフィ装置が1つまたは複数の照明構成を提供するように構成されている照明装置を含み、
軸上成分と軸外し成分を含む照明構成により減衰位相シフト・マスクのマスク・パターンを照明する段階であって、前記照明の軸外し成分が照明装置の瞳の縁部近くに延びる環状照明である段階と、
前記基板上に前記照明したマスク・パターンの画像を投影する段階とを含む方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20
H01L21/30 515D
, G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
, H01L21/30 516Z
2H095BB02
, 2H095BB03
, 5F046AA25
, 5F046CB01
, 5F046CB05
, 5F046DA12
