特許
J-GLOBAL ID：201003088672473323

スパッタリング装置、及び液晶装置の製造装置

発明者：
深田 晋一

深田 晋一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  大浪 一徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-180392
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020092
出願日： 2008年07月10日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】容易なターゲット交換を可能とすることでメンテナンス性に優れた、スパッタリング装置、及び液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板Wを収容する成膜室2と、成膜室2に着脱可能に設けられ、対向する一対のターゲット5a,5bからプラズマPzによりスパッタ粒子5Pを生じさせ、スパッタ粒子5Pを成膜室2内の基板Wに向けて放出するスパッタ粒子放出ユニット3と、を備えるスパッタリング装置1である。また、スパッタ粒子放出ユニット3は、ターゲット5a,5bを保持するとともにスパッタ粒子放出ユニット3の各構成部材をユニット化する保持部材80を有し、保持部材80を介して成膜室2に着脱可能に設けられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を収容する成膜室と、 該成膜室に着脱可能に設けられ、対向する一対のターゲットからプラズマによりスパッタ粒子を生じさせ、該スパッタ粒子を前記成膜室内の前記基板に向けて放出するスパッタ粒子放出ユニットと、 を備えることを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (1件)：
G02F 1/133
FI (1件)：
G02F1/1337 515
Fターム (5件)：
2H090HB03Y ,  2H090HC03 ,  2H090HC18 ,  2H090HD14 ,  2H090MB06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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