増感部位を有するスルホニルオキシイミド型感放射線性酸発生剤およびそれを用いたポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-029273
公開番号（公開出願番号）：特開2004-240170
出願日： 2003年02月06日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】保存安定性に優れ、放射線に対する透明性が高く、かつ高感度の新規感放射線性酸発生剤、並びに該感放射線性酸発生剤を含有し、保存安定性、感度、解像度、パターン形状等に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性酸発生剤は、電子供与性基を有する芳香族炭化水素基および/または電子供与性基を有する複素環式基がスルホニルオキシイミド基を有する骨格に結合しており、かつ該電子供与性基はその電子供与性原子の部位で該芳香族炭化水素基中の芳香環あるいは該複素環式基中の複素環に結合した構造を有するスルホニルオキシイミド化合物を少なくとも1種含む。ポジ型感放射線性樹脂組成物は、該感放射線性酸発生剤および酸解離性基含有樹脂を含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

電子供与性基を有する芳香族炭化水素基および/または電子供与性基を有する複素環式基がスルホニルオキシイミド基を有する骨格に結合しており、かつ該電子供与性基はその電子供与性原子が該芳香族炭化水素基中の芳香環あるいは該複素環式基中の複素環に結合した構造を有するスルホニルオキシイミド化合物を少なくとも1種含むことを特徴とする感放射線性酸発生剤。

IPC (4件)：

G03F7/004 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , C09K3/00 K , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (11件)：

2H025AA01 , 2H025AA11 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB41 , 2H025CC20

引用特許：

審査官引用 (14件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-233216 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-385724 出願人：富士写真フイルム株式会社
非金属感光性酸生成剤を含む化学的に増幅されたフォトレジスト
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-511390 出願人：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン

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引用文献：

審査官引用 (1件)

有機反応機構, 19840125, 第5版, 26-27

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