特許
J-GLOBAL ID：201003094826955067

酸化膜表面の洗浄及び保護方法および酸化膜表面の洗浄及び保護装置

発明者：
江面 知彦

江面 知彦 について

, 
渡辺 伸吾

渡辺 伸吾 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-198367
公開番号（公開出願番号）：特開2010-040567
出願日： 2008年07月31日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
【課題】基板上のITO表面を洗浄及び保護する方法を提供する。【解決手段】プロセスチャンバPC100の内部に載置された基板上のITO表面にその表面の汚染物の分子の結合エネルギーより強いエネルギーを持つ光を光源から照射し、その照射中又は照射後、直ちに同一チャンバ内にてシランカップリングのガスを供給する。これにより、基板上のITO表面を洗浄及び保護することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反応容器内に載置された基板上の酸化膜の表面に、前記表面の汚染物の分子の結合エネルギーより強いエネルギーを持つ光を光源から照射する第1の工程と、 前記第1の工程中または前記第1の工程後直ちに前記反応容器内にシランカップリングのガスを供給する第2の工程と、を含む酸化膜表面の洗浄及び保護方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/26
FI (4件)：
H01L21/304 645D ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/26 Z
Fターム (33件)：
3K107AA01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC23 ,  3K107CC25 ,  3K107CC27 ,  3K107CC29 ,  3K107FF00 ,  3K107GG23 ,  3K107GG28 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB02 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD07 ,  5F004EA38 ,  5F004EB02 ,  5F058AA10 ,  5F058AB05 ,  5F058AB06 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AE10 ,  5F058AF01 ,  5F058AH02 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BG45 ,  5F157CF80 ,  5F157CF90
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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