特許
J-GLOBAL ID：201003095946029855
流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-114836
公開番号（公開出願番号）：特開2010-278432
出願日： 2010年05月19日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：
【課題】投影システムの最終エレメントと基板の間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。【解決手段】流体ハンドリング構造は、ガスドラッグ原理で動作するメニスカス固定システムとして作用する複数の開口と、メニスカス固定システムの外側の、後に残されるあらゆる液体の膜を解体するためのガスナイフとを有している。ガスナイフとメニスカス固定システムの間の分離は、1mmから5mmまでの範囲から選択される。ガスナイフおよびメニスカス固定システムが提供される障壁部材の下面は連続していることが望ましく、たとえばガスナイフとメニスカス固定システムの間に開口を有していないことが望ましい。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、複数のメニスカス固定開口を有し、基板および/または前記基板を支持する基板テーブルに前記複数のメニスカス固定開口が向くように構成されており、ガスナイフ用の細長い一つまたは一列に配置される複数の穴と、前記一つまたは複数の穴と前記複数のメニスカス固定開口との間に配置されるダンパとをさらに備える、流体ハンドリング構造。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB24
, 5F046CC01
, 5F046CC08
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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