特許
J-GLOBAL ID：201003098428670643
反射型マスク、および、反射型マスク製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-291050
公開番号（公開出願番号）：特開2010-118520
出願日： 2008年11月13日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】本発明は、高いパターン転写精度を実現することが可能な反射型マスクを提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、基板と、上記基板の一方の面に形成された多層膜と、上記多層膜上に形成された中間層と、上記中間層上に形成された吸収層とを有する反射型マスクであって、上記吸収層は、上記吸収層が部分的に除去された吸収体転写パターンが形成された吸収体転写パターン領域を有し、上記吸収体転写パターン領域の外周の少なくとも一部には、上記多層膜、中間層および吸収層が除去されて上記基板が露出している遮光枠部が形成されており、上記遮光枠部内の上記多層膜が露出した側面のみに、洗浄薬液による洗浄に対して耐性を有する保護用酸化皮膜が形成されていることを特徴とする反射型マスクを提供することにより、上記目的を達成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板の一方の面に形成された多層膜と、前記多層膜上に形成された中間層と、前記中間層上に形成された吸収層とを有する反射型マスクであって、
前記吸収層は、前記吸収層が部分的に除去された吸収体転写パターンが形成された吸収体転写パターン領域を有し、
前記吸収体転写パターン領域の外周の少なくとも一部には、前記多層膜、中間層および吸収層が除去されて前記基板が露出している遮光枠部が形成されており、
前記遮光枠部内の前記多層膜が露出した側面のみに、洗浄薬液による洗浄に対して耐性を有する保護用酸化皮膜が形成されていることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BA10
, 2H095BC09
, 2H095BC19
, 2H095BC24
, 5F046GA03
, 5F046GA04
, 5F046GD02
, 5F046GD03
, 5F046GD07
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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