特許
J-GLOBAL ID：200903058292579130
反射型マスク及びその作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
吉武 賢次
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-052198
公開番号（公開出願番号）：特開2009-212220
出願日： 2008年03月03日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】シャドーイング効果が小さく、且つ位相シフト露光が可能で、十分な遮光枠性能を持つ反射型マスクを提供する。【解決手段】基板と、前記基板の上に形成された多層反射膜と、前記多層反射膜の上に形成され、照射される露光光の一部を第1の反射光として放射し、前記第1の反射光と前記多層反射膜に照射される露光光が反射した第2の反射光との位相を異ならせる位相シフト機能を有する光吸収体層と、前記光吸収体層に形成された回路パターン領域と、前記回路パターン領域の外部に設けられた、前記回路パターン領域に位置する光吸収体層よりも照射される露光光の反射率が低い遮光領域と、を備える。【選択図】図3(c)
請求項（抜粋）：
基板と、
前記基板の上に形成された多層反射膜と、
前記多層反射膜の上に形成され、照射される露光光の一部を第1の反射光として放射し、前記第1の反射光と前記多層反射膜に照射される露光光が反射した第2の反射光との位相を異ならせる位相シフト機能を有する光吸収体層と、
前記光吸収体層に形成された回路パターン領域と、
前記回路パターン領域の外部に設けられた、前記回路パターン領域に位置する光吸収体層よりも照射される露光光の反射率が低い遮光領域と、
を備えることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA10
, 2H095BB03
, 2H095BB35
, 2H095BC04
, 2H095BC24
, 5F046GD01
, 5F046GD03
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
全件表示
前のページに戻る
