特許
J-GLOBAL ID：201103000671345324
Ti-Al合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶 良之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144761
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328242
特許番号：特許第4203180号
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】Alを15〜40原子%含有し、残部が実質的にTiからなるTi-Al 合金スパッタリングターゲットであって、Ti3Al 金属間化合物の面積率が30%以上である金属組織を有し、かつ、径が0.1mm 以上の欠陥が10個/100cm2以下であることを特徴とするTi-Al 合金スパッタリングターゲット。
IPC (4件)：
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C22C 14/00 ( 200 6.01)
, C22F 1/18 ( 200 6.01)
, C22F 1/00 ( 200 6.01)
C23C 14/34 A
, C22C 14/00 Z
, C22F 1/18 H
, C22F 1/00 613
, C22F 1/00 681
, C22F 1/00 682
, C22F 1/00 683
, C22F 1/00 691 B
, C22F 1/00 691 Z
, C22F 1/00 694 A
, C22F 1/00 694 B
, C22F 1/00 694 Z
