シャワーヘッドを備える急速熱処理チャンバ

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：園田吉隆 , 小林義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-517616
公開番号（公開出願番号）：特表2011-527837
出願日： 2009年07月09日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：

基板を熱処理する装置および方法が提供される。チャンバは、基板の加熱および冷却中、板から異なる距離のところに基板を位置決めするように構成された浮上式の支持アセンブリを含む。一実施形態では、板の表面上の複数の開口が、基板の放射状の表面全体にわたってガスを均等に分布させるように構成される。このガスの分布により、熱処理中に基板へ後方反射されない放射エネルギーを板の吸収性の領域と結合させて、基板の冷却を開始することができる。本明細書に記載の方法および装置は、基板を急速に熱処理する制御可能かつ効果的な手段を可能にする。

請求項（抜粋）：

基板を加熱する急速熱処理装置であって、チャンバと、前記チャンバ内で前記基板を保持する支持体であり、前記基板が第1の面および前記第1の面の反対側の第2の面を有する支持体と、前記基板の前記第1の面の方へ放射エネルギーを誘導し、オンおよびオフを迅速に切り換えて、均一な分布を含む所望の空間温度分布で前記基板を制御可能に加熱するように構成された放射熱源と、所定の波長範囲にわたって放射の強度を測定する少なくとも1つの高温計であり、前記基板によって放出される放射を受け取るように位置決めされる高温計と、前記基板の前記第2の面に面している板であり、少なくとも1つのガス源と、前記基板全体にわたってプロセスガスを均等に分布させるように構成された前記板の表面上の複数の開口とに結合された少なくとも1つのガスチャネルを含み、前記所定の波長範囲内の放射を反射する反射領域を有する板とを備える装置。

IPC (3件)：

H01L 21/26 , H01L 21/31 , H01L 21/683

FI (4件)：

H01L21/26 G , H01L21/26 Q , H01L21/31 E , H01L21/68 N

Fターム (22件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031GA02 , 5F031GA64 , 5F031HA33 , 5F031HA58 , 5F031HA59 , 5F031JA02 , 5F031JA09 , 5F031JA17 , 5F031JA22 , 5F031JA32 , 5F031JA46 , 5F031MA30 , 5F031NA04 , 5F031NA07 , 5F045EF05 , 5F045EJ04 , 5F045EK13 , 5F045GB05

引用特許：

出願人引用 (7件)

シャワーヘッド及びシャワーヘッドを用いた半導体熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-259587 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-082697 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-030514

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審査官引用 (7件)

シャワーヘッド及びシャワーヘッドを用いた半導体熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-259587 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-082697 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-030514

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