特許
J-GLOBAL ID：201103006054415500
電子線描画装置、および描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055085
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329961
特許番号：特許第3555484号
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】試料に描画パターンを形成するための描画データを生成する描画データ生成手段、前記描画データから電子線の露光量マップを作成する露光量マップ作成手段、前記試料に照射する電子線の照射量を前記露光量マップを参照して補正する電子線補正手段を備えた描画データ生成部を複数有し、各々の描画データ生成部は1つの描画パターンについて条件の異なる露光量マップを作成するとともに、前記電子線補正手段で前記条件の異なる露光量マップを参照して補正された値に基づいて前記電子線を前記試料に照射して描画を行う電子線描画手段を備え、該電子線描画手段は前記条件の異なる露光量マップに基づいて描画を順次行い、描画結果の評価の結果最適な条件の露光量マップを用いて描画を行うことを特徴とする電子線描画装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 541 M
, G03F 7/20 504
出願人引用 (8件)
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特開昭63-208215
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特開昭60-187018
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荷電ビーム描画方法及び描画装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-019396
出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (11件)
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