塗布現像処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：萩原康司 , 金本哲男 , 亀谷美明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-137499
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319863
特許番号：特許第3556882号
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも基板に塗布膜を形成する塗布処理装置と,前記基板の現像を行う現像処理装置と,前記基板の熱処理を行う熱処理装置と,これらの塗布処理装置,現像処理装置及び熱処理装置に対して前記基板の搬入出を行う第1の搬送装置とを有する処理部と,前記処理部と前記基板の露光処理を行う露光処理装置との間の経路で基板の搬送が行われるインタフェイス部とがケーシング内に備えられた塗布現像処理を行うシステムであって,前記インタフェイス部に,前記熱処理装置と,該熱処理装置と前記露光処理装置との間の経路で基板の受け渡しを行う第2の搬送装置とを配置し,前記インタフェイス部を,前記熱処理装置が配置された熱処理領域と前記第2の搬送装置が配置された受け渡し領域とに分け,かつ前記熱処理領域に不活性気体を供給する第1の気体供給装置と,前記熱処理領域の雰囲気を排気する第1の排気手段と,前記受け渡し領域に不活性気体を供給する第2の気体供給装置と,前記受け渡し領域の雰囲気を排気する第2の排気手段と,前記熱処理領域と前記受け渡し領域間の雰囲気を遮断する第1の仕切板を有し,前記第1の仕切板は,前記熱処理領域と前記受け渡し領域間で基板を受け渡しするための第1の通過口を有し,前記第1の通過口は,この第1の通過口を開閉自在とする第1のシャッタを有することを特徴とする,塗布現像処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 , G03F 7/30

FI (3件)：

H01L 21/30 562 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501

引用特許：

出願人引用 (7件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225239 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049443 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
塗布現像露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007128 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (3件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225239 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049443 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
塗布現像露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007128 出願人：株式会社ニコン

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