特許
J-GLOBAL ID：201103009372072572
グラフェン膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松井 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-034152
公開番号（公開出願番号）：特開2011-168449
出願日： 2010年02月19日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：
【課題】基板選択の自由度が高く、簡易な方法で大面積のグラフェン膜を基板上に形成することが可能なグラフェン膜の製造方法を提供する。【解決手段】酸化グラフェンを含む懸濁液を基板に流延塗付して流延物を形成し、該流延物を金属ハイドライドの存在下で加熱して還元してグラフェン膜を製造する。金属ハイドライドとしてCaH2を用いることが好ましい。流延物を300〜600°Cの温度で、3時間以上加熱して前記還元を行うことが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
酸化グラフェンを含む懸濁液を基板に流延塗付して流延物を形成し、該流延物を金属ハイドライドの存在下で加熱して還元することを特徴とするグラフェン膜の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (22件)：
4G146AA07
, 4G146AB07
, 4G146AC20B
, 4G146AD23
, 4G146AD24
, 4G146AD30
, 4G146BA02
, 4G146BB04
, 4G146BB05
, 4G146BB12
, 4G146BB23
, 4G146BC02
, 4G146BC27
, 4G146BC32A
, 4G146BC32B
, 4G146BC33A
, 4G146BC33B
, 4G146BC37A
, 4G146BC37B
, 4G146BC38B
, 4G146BC42
, 4G146BC43
