特許
J-GLOBAL ID：201103009389676668
薄膜製造方法および薄膜素子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-267907
公開番号（公開出願番号）：特開2011-111355
出願日： 2009年11月25日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：
【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。【解決手段】薄膜製造方法であって、基板20の第1主面20a上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板を配置する配置工程と、第1主面20a側から光を照射することにより、基板20の第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の第1主面上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、
前記第1主面側から光を照射することにより、前記基板の第1主面上に前記薄膜を形成する形成工程と
を有することを特徴とする薄膜製造方法。
IPC (3件)：
C01B 13/14
, C23C 26/00
, H02N 2/00
C01B13/14 Z
, C23C26/00 C
, C23C26/00 E
, H02N2/00 B
4G042DA01
, 4G042DB31
, 4G042DB35
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE08
, 4G042DE09
, 4G042DE14
, 4K044AB10
, 4K044BA12
, 4K044BC14
, 4K044CA44
