酸化物薄膜作製用塗布溶液

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-032969
公開番号（公開出願番号）：特開2011-159941
出願日： 2010年01月28日
公開日（公表日）： 2011年08月18日
要約：

【課題】塗布法によって、In-Ga、In-Zn、Zn-Ga、In-Ga-Zn、Zn-Alの酸化物薄膜を、組成ずれを起こさず簡便に形成することの出来る塗布溶液を提供する。【解決手段】式(I)に示すβ-ジケトン錯体であって配位子1つの炭素数が10以上のIn、Ga、Al、Znの単一金属のβ-ジケトン錯体から構成される単一金属のβ-ジケトン錯体を、少なくとも2種以上を含む溶液を塗布溶液に用いる。 (式中R1、R2がそれぞれC、H、N、Oの少なくとも1種以上からなる置換基であり、MがIn、Ga、Zn、Alのいずれかであり、MがIn、Ga、Alのいずれかである場合はn=3であり、MがZnである場合はn=2である)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(I)の構造式で示されるβ-ジケトン錯体であって、配位子1つの炭素数が10以上のIn、Ga、Al、Znの単一金属のβ-ジケトン錯体から構成される単一金属のβ-ジケトン錯体を少なくとも2種以上を含むことを特徴とする酸化物膜作製用の塗布溶液。

IPC (1件)：

H01L 21/208

FI (1件)：

H01L21/208 Z

Fターム (11件)：

5F053AA06 , 5F053AA50 , 5F053DD20 , 5F053FF01 , 5F053HH04 , 5F053LL01 , 5F053LL05 , 5F053LL10 , 5F053PP03 , 5F053RR04 , 5F053RR20

引用特許：

出願人引用 (6件)

透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用塗布液
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-212277 出願人：住友金属鉱山株式会社, 東北化工株式会社
基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-061361 出願人：長岡技術科学大学長
透明導電膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-083015 出願人：東北リコー株式会社

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