特許
J-GLOBAL ID:201103012577457532

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-375474
公開番号(公開出願番号):特開2001-189426
特許番号:特許第3571981号
出願日: 1999年12月28日
公開日(公表日): 2001年07月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】情報を記憶する第1、第2のメモリセルと、前記第1のメモリセルに接続され、第1の配線層に形成された第1配線と、前記第1のメモリセルに接続され、前記第1配線に隣接して所定の間隔を保持するように、前記第1の配線層に形成された第2配線と、前記第2のメモリセルに接続され、第2の配線層に前記第2配線に隣接して形成された第3配線と、前記第2のメモリセルに接続され、前記第3配線に隣接して所定の間隔を保持するように、前記第2の配線層に形成された第4配線と、を具備することを特徴とする不良解析用の半導体装置。
IPC (5件):
H01L 21/822 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/04 ,  H01L 27/108
FI (3件):
H01L 27/04 T ,  H01L 21/66 Y ,  H01L 27/10 681 Z
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 半導体集積回路
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-122076   出願人:富士通株式会社
  • 半導体ウェハの不良解析方法及びその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-172251   出願人:松下電器産業株式会社
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-304602   出願人:富士通株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 半導体集積回路
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-122076   出願人:富士通株式会社
  • 半導体ウェハの不良解析方法及びその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-172251   出願人:松下電器産業株式会社
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-304602   出願人:富士通株式会社
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