基板処理方法及び基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：萩原康司 , 金本哲男 , 亀谷美明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095046
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294532
特許番号：特許第3701811号
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理液貯留タンク内に貯留した処理液を所定温度に加熱し,この加熱された処理液を前記処理液貯留タンク内から処理槽内に充填して該処理槽内にて処理液中に基板を浸漬させることにより基板を処理する方法であって, 前記処理液貯留タンク内に処理液を貯留する工程と, 前記処理液貯留タンク内に処理液が貯留された後,前記貯留する工程よりも小さい流量で前記処理液貯留タンク内へ処理液を供給しつつ排出する工程と, 前記処理槽内に処理液の充填を開始する時刻よりも所定時間前に,前記処理液貯留タンク内への処理液の供給と,前記処理液貯留タンク内からの処理液の排出を停止させ,前記処理液貯留タンク内の処理液を加熱する工程を有することを特徴とする,基板処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 648 K , H01L 21/304 642 A , B08B 3/08 A , B08B 3/10 Z , H01L 21/306 J

引用特許：

出願人引用 (6件)

基板の浸漬処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-145939 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-021349
基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-094985 出願人：ソニー株式会社

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審査官引用 (6件)

基板の浸漬処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-145939 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-021349
基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-094985 出願人：ソニー株式会社

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