表面検査装置およびその方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上学 , 戸田裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-218400
公開番号（公開出願番号）：特開2011-069624
出願日： 2009年09月24日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：

【課題】エッジグリップ方式チャックにおいては、定期的なメンテナンス(清掃等)が不可欠となる。しかし、清掃等のメンテナンスを行う場合、人が作業を行う以上作業にムラが生じる可能性を否定できない。また、人を介することで新たな塵を付着させたり傷を付けたり、部品を破壊したりといったリスクも考慮しなければならない。【解決手段】本発明は上記課題を解決するためにウエハチャックを検査光学系より後方に移動し、前記検査光学系より後方で、前記ウエハチャックを清掃することを特徴とする。また、本発明は、ウエハチャックヘ供給される空気の流量と、前記ウエハチャックへ供給される空気の排気量を制御することを他の特徴とする。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板を検査する検査装置において、ファンフィルタユニットと、前記ファンフィルタユニットからの空気の流れに対して後方に配置された検査光学系と、前記光学系より後方に配置された清掃ユニットと、前記清掃ユニットより後方に配置された排気口と、前記排気口に接続された排気ユニットと、を有する検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 , H01L 21/66 , H01L 21/683

FI (3件)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J , H01L21/68 N

Fターム (19件)：

2G051AA51 , 2G051AA71 , 2G051AB01 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051DA06 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051DA17 , 4M106AA01 , 4M106BA01 , 4M106CA01 , 4M106DJ32 , 5F031CA02 , 5F031HA01 , 5F031MA33 , 5F031NA14 , 5F031NA15 , 5F031PA24

引用特許：

出願人引用 (9件)

フォトマスクの異物検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-003726 出願人：ソニー株式会社
外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-299414 出願人：オリンパス株式会社
ディスク状対象物を検査するシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-369702 出願人：ライカマイクロシステムスイェーナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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審査官引用 (9件)

フォトマスクの異物検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-003726 出願人：ソニー株式会社
外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-299414 出願人：オリンパス株式会社
ディスク状対象物を検査するシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-369702 出願人：ライカマイクロシステムスイェーナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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