洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日向寺雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-293859
公開番号（公開出願番号）：特開2011-134929
出願日： 2009年12月25日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：

【課題】露光ユニットを大気開放することなくレチクルステージを洗浄することができる洗浄用レチクル、レチクルステージの洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】極端紫外線露光装置のレチクルステージの洗浄方法において、基板上にパーティクル取込層が形成された洗浄用レチクルのパーティクル取込層をレチクルステージに押し付ける工程と、洗浄用レチクルをレチクルステージから剥離する工程と、基板上からパーティクル取込層を除去する工程と、パーティクル取込層が除去された基板上に新たにパーティクル取込層を形成する工程と、を設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

紫外線を透過させる基板と、前記基板上に形成され、前記紫外線が照射されると硬化する紫外線硬化層と、を備えたことを特徴とするレチクルステージの洗浄用レチクル。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/304

FI (4件)：

H01L21/30 531Z , H01L21/30 503G , G03F7/20 521 , H01L21/304 641

Fターム (28件)：

5F046AA22 , 5F046CB17 , 5F046CC09 , 5F046DA27 , 5F046GA12 , 5F046GA14 , 5F046GD20 , 5F146AA22 , 5F146CB17 , 5F146CC09 , 5F146DA27 , 5F146GA12 , 5F146GA23 , 5F146GD20 , 5F157AA73 , 5F157BA10 , 5F157CB03 , 5F157CB11 , 5F157CB31 , 5F157CC00 , 5F157CC31 , 5F157CF62 , 5F157DA21 , 5F157DB46 , 5F157DB51 , 5F157DC00 , 5F157DC88 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (7件)

レチクルが接する装置のクリーニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-335602 出願人：日東電工株式会社
チャック表面の異物除去方法、容器、及びテーブル
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-043864 出願人：株式会社ニコン
基板表面のクリーニング方法及び基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-174906 出願人：株式会社ニコン

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