チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-237606
公開番号（公開出願番号）：特開2004-074006
特許番号：特許第3960882号
出願日： 2002年08月16日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】シリコンアルコキシド、加水分解性を有するチタニウム化合物およびβ-ジケトンを含む溶液から、β-ジケトンで修飾されたシリコンアルコキシドとチタニウム化合物の複合金属酸化物あるいは水酸化物を含む膜を形成し、この膜を所望のパターンでマスクして紫外線を照射し、紫外線照射部を硬化させた後、非照射部をエッチングし、次いで、水または温水と接触させて、紫外線照射部の表面にチタニア微結晶を析出させることを特徴とするチタニアナノ微結晶分散薄膜パターンの製造方法。

IPC (3件)：