特許
J-GLOBAL ID:201103019259661621
多層セラミック基板およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小柴 雅昭
, 岡本 寛之
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-323736
公開番号(公開出願番号):特開2001-144437
特許番号:特許第4432170号
出願日: 1999年11月15日
公開日(公表日): 2001年05月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 低温焼結セラミック材料を含む、複数の基体用グリーンシートと、前記基体用グリーンシートの特定のものに接するように配置され、かつ前記低温焼結セラミック材料の焼結温度では焼結しない収縮抑制用セラミック材料を含む、収縮抑制用グリーンシートとを備える、生の複合積層体を用意する工程と、
前記生の複合積層体を焼成する工程と
を備え、
前記収縮抑制用グリーンシートの少なくとも1つとして、当該収縮抑制用グリーンシートと接する前記基体用グリーンシートの形成領域上での前記収縮抑制用グリーンシートの厚みに関して、前記形成領域上での周縁部の厚みが前記形成領域上での中央部の厚みより厚くされているものを用いる、
多層セラミック基板の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
前のページに戻る