特許
J-GLOBAL ID：201103020292658316

ガス処理装置

発明者：
西村 章

西村 章 について


出願人/特許権者：
株式会社流機エンジニアリング

株式会社流機エンジニアリング について


代理人 (1件)： 永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-186368
公開番号（公開出願番号）：特開2011-036801
出願日： 2009年08月11日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：
【課題】エネルギーコストを削減することができるガス処理装置とする。【解決手段】ガスG1中の被処理物質を吸着剤Cに吸着させる吸着系と、吸着剤Cから被処理物質を脱着させる脱着系とを有するガス処理装置であって、吸着系として、ガスG1が流されるガス路X1と、このガス路X1に吸着剤Cを粉体の状態で供給する吸着剤供給手段と、吸着剤Cが供給されたガスG1が通される第1のフィルター14Aとを備え、脱着系として、加熱ガスG3が流される加熱路X2と、この加熱路X2に第1のフィルター14Aで捕捉された捕捉吸着剤C2を供給する捕捉吸着剤供給手段15と、捕捉吸着剤C2が供給された加熱ガスG3が通される第2のフィルター21Aとを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガス中の被処理物質を吸着剤に吸着させる吸着系と、前記吸着剤から前記被処理物質を脱着させる脱着系と、を有するガス処理装置であって、 前記吸着系は、前記ガスが流されるガス路と、このガス路に前記吸着剤を粉体の状態で供給する吸着剤供給手段と、前記吸着剤が供給されたガスが通される第1のフィルターと、を有し、 前記脱着系は、加熱ガスが流される加熱路と、この加熱路に前記第1のフィルターで捕捉された捕捉吸着剤を供給する捕捉吸着剤供給手段と、前記捕捉吸着剤が供給された加熱ガスが通される第2のフィルターと、を有する、 ことを特徴とする、ガス処理装置。
IPC (6件)：
B01D 53/10 ,  B01D 53/26 ,  B01D 53/62 ,  B01D 53/68 ,  B01D 53/58 ,  B01D 53/72
FI (6件)：
B01D53/10 ,  B01D53/26 101Z ,  B01D53/34 135Z ,  B01D53/34 134A ,  B01D53/34 131 ,  B01D53/34 120D
Fターム (41件)：
4D002AA09 ,  4D002AA13 ,  4D002AA18 ,  4D002AA40 ,  4D002AB01 ,  4D002AB02 ,  4D002AB03 ,  4D002AC07 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA11 ,  4D002CA13 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002DA47 ,  4D002EA01 ,  4D002EA08 ,  4D002HA10 ,  4D012AA02 ,  4D012CA01 ,  4D012CA03 ,  4D012CA11 ,  4D012CA12 ,  4D012CC13 ,  4D012CD01 ,  4D012CD03 ,  4D012CG01 ,  4D012CH01 ,  4D012CH05 ,  4D052AA00 ,  4D052CE00 ,  4D052DA00 ,  4D052DA03 ,  4D052DA04 ,  4D052DB01 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4D052HA21
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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