特許
J-GLOBAL ID：200903019683242215

照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム

発明者：
福原 和也

福原 和也 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-243874
公開番号（公開出願番号）：特開2006-066440
出願日： 2004年08月24日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】露光量余裕度を最適にする照明光源の設計方法を提供する。【解決手段】マスクパターンの転写パターンの寸法管理を行う管理図形を設定するステップと、マスクパターンを照明する複数の照明要素を設定するステップと、複数の照明要素のそれぞれから出射される光の第1の偏光状態に第1の照明光を設定するステップと、第1の照明光のそれぞれで第1の結像面に形成される管理図形の第1の光学像を計算するステップと、第1の光学像の光学特性に基づいて光の照明形状及び偏光状態分布を決定するステップとを含む。【選択図】 図24
請求項（抜粋）：
マスクパターンの転写パターンの寸法管理を行う管理図形を設定するステップと、 前記マスクパターンを照明する複数の照明要素を設定するステップと、 前記複数の照明要素のそれぞれから出射される光の第1の偏光状態に第1の照明光を設定するステップと、 前記第1の照明光のそれぞれで第1の結像面に形成される前記管理図形の第1の光学像を計算するステップと、 前記第1の光学像の光学特性に基づいて前記光の照明形状及び偏光状態分布を決定するステップ とを含むことを特徴とする照明光源の設計方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G03F1/08 A ,  G03F7/20 521
Fターム (10件)：
2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB36 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046DA12 ,  5F046DB04
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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