特許
J-GLOBAL ID：201103025471769416

ネガ型化学増幅レジスト組成物及びこれを用いたモールドの作成方法

発明者：
樽谷 晋司

樽谷 晋司 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-180213
公開番号（公開出願番号）：特開2011-035173
出願日： 2009年07月31日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。【解決手段】(A)樹脂、(B)酸の作用により樹脂(A)を架橋する架橋剤及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/20 ,  B29C 33/38
FI (6件)：
H01L21/30 502D ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 541P ,  G03F7/20 504 ,  B29C33/38
Fターム (53件)：
2H096AA30 ,  2H096BA06 ,  2H096EA06 ,  2H096EA23 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H097CA16 ,  2H097FA02 ,  2H097LA15 ,  2H125AE03P ,  2H125AE04P ,  2H125AE05P ,  2H125AE06P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF27P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF43P ,  2H125AF45P ,  2H125AF52P ,  2H125AF53P ,  2H125AF55P ,  2H125AF70P ,  2H125AM10P ,  2H125AM12P ,  2H125AM13P ,  2H125AM14P ,  2H125AM15P ,  2H125AM16P ,  2H125AN02P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN57P ,  2H125AN59P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA30 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  2H125FA05 ,  4F202AH79 ,  4F202CA19 ,  4F202CD03 ,  4F202CD24 ,  5F046AA28 ,  5F056DA04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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