特許
J-GLOBAL ID：201103025866841434
レーザイオン化質量分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
生井 和平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-099869
公開番号（公開出願番号）：特開2011-233248
出願日： 2010年04月23日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：
【課題】高分子材料を高感度に分析可能であり、且つ、質量スペクトルと高分子の種類の選択性も高いレーザイオン化質量分析装置を提供する。【解決手段】高分子材料をイオン化してその質量を分析するレーザイオン化質量分析装置は、試料台10とイオンビーム源20とレーザ光源30と分析部40とからなる。試料台10は、高分子材料が配置される。イオンビーム源20は、試料台に配置される高分子材料にイオンビームを照射する。レーザ光源30は、試料台の表面に平行にレーザ光を照射するものであり、イオンビーム源からのイオンビームにより試料台に配置される高分子材料から放出される高分子材料由来の分子にレーザ光を照射し、高分子材料由来の分子をイオン化する。分析部40は、レーザ光源からのレーザ光によりイオン化される試料を質量分析する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
高分子材料をイオン化してその質量を分析するレーザイオン化質量分析装置であって、該レーザイオン化質量分析装置は、
高分子材料が配置される試料台と、
前記試料台に配置される高分子材料にイオンビームを照射するイオンビーム源と、
前記試料台の表面に平行にレーザ光を照射するレーザ光源であって、イオンビーム源からのイオンビームにより試料台に配置される高分子材料から放出される高分子材料由来の分子にレーザ光を照射し、高分子材料由来の分子をイオン化するレーザ光源と、
前記レーザ光源からのレーザ光によりイオン化される試料を質量分析する分析部と、
を具備することを特徴とするレーザイオン化質量分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
2G041CA01
, 2G041DA03
, 2G041DA19
, 2G041EA01
, 2G041FA09
, 5C038GG07
, 5C038GH06
, 5C038GH09
, 5C038GH10
, 5C038GH15
