特許
J-GLOBAL ID：201103026190457357

光干渉断層法を用いる撮像装置及びその制御方法

発明者：
宇都宮 紀彦

宇都宮 紀彦 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (9件)： 岡部 讓 ,  岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-181607
公開番号（公開出願番号）：特開2011-030887
出願日： 2009年08月04日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】眼底断層撮像装置において、疾病部位を通る複数の断層面で的確に断層撮影することは、疾病の診断、病態把握にとって重要な意味を持っている。しかしながら、従来提案されている眼底断層撮像装置においては、被検者撮像中に疾病部位の断面像を多面的に確認しながら断層撮影することは不可能であった。本発明は疾病部位を複数の面で的確に断層取得することを解決する。【解決手段】眼底撮像用の低コヒーレント光断層撮像装置で、互いに交差する複数の面での断層を時分割で取得する手段と、複数の面での取得画像を同一の画面上のそれぞれ別の部位に表示する手段と、それぞれの表示断層像に対する他の断層像の交差する位置を表示する手段とをもつことによって、的確な位置での断層取得を可能にする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
互いに交差する複数の面における断層画像を時分割で取得する手段と、 前記複数の断層画像の各々の面での取得断層画像を画像表示装置に表示する手段と、 前記互いに交差する複数の面の交差位置を各々の表示画像上あるいは近傍に表示する手段と、 を有することを特徴とする光干渉断層法を用いる撮像装置。
IPC (4件)：
A61B 3/12 ,  G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  A61B 3/10
FI (4件)：
A61B3/12 E ,  G01N21/17 630 ,  A61B10/00 E ,  A61B3/10 R
Fターム (21件)：
2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE17 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059HH08 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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