電子線露光用マスク、電子線露光装置および電子線露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294017
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311849
特許番号：特許第3353830号
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】散乱領域を有するマスクを用いて電子線散乱の違いによる散乱コントラストによりパターン露光を行うと同時に、該マスクにより散乱された散乱電子の一部を利用して近接効果補正を行う散乱角制限方式電子線露光方法に用いられるマスクであって、マスク基板に電子線の飛程の1/2よりも薄い散乱領域を有し、該散乱領域はウェハにおける露光電子の後方散乱径の範囲に対応する領域を含み、該散乱領域に開口部を設けて開口パターンが形成されていることを特徴とする電子線露光用マスク。

IPC (3件)：