ポジ型フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-277016
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100420
特許番号：特許第3934289号
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも下記一般式(I)で示される構造単位を含有する酸分解性ポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。式(I)中、L1は-A-NHCO-、-A-NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-及び-A-OCONH-から選択される少なくとも1つの2価の連結基を表す。Aは単結合又はアリーレン基を表す。X1は芳香環基又は脂環基を表す。Qは水素原子または酸分解性基を表すが、一般式(I)を含むポリシロキサン中で全てのQが水素原子になることはない。nは1〜6の整数を表す。

IPC (3件)：