特許
J-GLOBAL ID：201103029890146017
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-018511
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214588
特許番号：特許第3963602号
出願日： 1999年01月27日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (イ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
(ロ)(a)下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素構造を含む基のうちの少なくとも1種の基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位、
(b)下記一般式(rI)で表される繰り返し単位、および
(c)下記一般式(sI)で表される繰り返し単位
を含み、上記(c)の繰り返し単位含有量が樹脂の全繰り返し単位の5〜18モル%であり、かつ酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂(但し、下記樹脂(A)及び(B)と同一構成の繰り返し単位を含有する樹脂を除く:
)、および、
(ニ)界面活性剤
を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
一般式(pI)〜(pVI)中;
R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基またはsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。
R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。
R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表す。
R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基または脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。
一般式(rI)中;
R5は、水素原子、ハロゲン原子または1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。
Xは、2価の連結基を表す。
R0 は、COOR0 で表される構成が酸の作用により分解する基となるような基を表す。
一般式(sI)中、R6は、水素原子、ハロゲン原子または1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
