特許
J-GLOBAL ID：201103031117460831

薄膜製造用焼結体ターゲットとその製造方法

発明者：
阿部 能之

阿部 能之 について

, 
中山 徳行

中山 徳行 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (1件)： 河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-236988
公開番号（公開出願番号）：特開2011-084765
出願日： 2009年10月14日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
【課題】量産時の連続スパッタリング工程においても、非エロージョン部に堆積した付着膜がターゲット表面から剥がれにくく、ノジュールやアーキングの生じにくい焼結体ターゲットの提供。【解決手段】酸化亜鉛を主成分とした薄膜製造用焼結体ターゲットにおいて、ベースとなる焼結体ターゲットのスパッタ面に、c軸配向した酸化亜鉛を主成分とした薄膜が膜厚20nm以上のシード膜として形成されていることを特徴とする薄膜製造用焼結体ターゲット;酸化亜鉛を主成分とした薄膜製造用焼結体ターゲットの製造方法において、ベースとなる焼結体ターゲットのスパッタ面に、組成が、該焼結体ターゲットの組成と実質的に同じであるシード膜形成用ターゲットを用いて、スパッタリング法で、c軸配向した酸化亜鉛を主成分としたシード膜を20nm以上の厚さに成膜することを特徴とする薄膜製造用焼結体ターゲットの製造方法などによって提供。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸化亜鉛を主成分とした薄膜製造用焼結体ターゲットにおいて、ベースとなる焼結体ターゲットのスパッタ面に、c軸配向した酸化亜鉛を主成分とした薄膜が膜厚20nm以上のシード膜として形成されていることを特徴とする薄膜製造用焼結体ターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34 ,  C04B 35/453 ,  C04B 41/87
FI (3件)：
C23C14/34 A ,  C04B35/00 P ,  C04B41/87 C
Fターム (26件)：
4G030AA07 ,  4G030AA16 ,  4G030AA20 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030AA39 ,  4G030BA02 ,  4G030GA11 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4G030GA29 ,  4G030GA35 ,  4K029BA49 ,  4K029BB08 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC07 ,  4K029DC09 ,  4K029DC15 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02 ,  4K029EA03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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