特許
J-GLOBAL ID：201103033916495225
光学要素を冷却する方法、リソグラフィ装置、およびデバイスを製造する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-077418
公開番号（公開出願番号）：特開2011-222992
出願日： 2011年03月31日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：
【課題】EUVリソグラフィ装置の投影システムといった真空光学システム内の光学要素のための向上された冷却配置を提供する。【解決手段】 真空環境で動作する光学要素を熱調節する方法である。光学要素は少なくとも1つの光学面と少なくとも1つの熱伝達面を有する第1の本体を含む。第1の本体は位置および/または向きにおいて動的に制御される。かかる方法は、第2の熱伝達面を含む第2の本体の温度を所望の温度に制御することと、第2の本体を第1の本体に隣接して位置決めし、本体間に接触がない状態で実質的に一定の配置に第1および第2の熱伝達面を維持するように位置および/または向きにおいて第2の本体を動的に制御することと、第1および第2の熱伝達面によって画定される熱伝達空間内にガスを熱伝達媒体として送出する一方で、熱伝達空間内のガスの圧力を約30Paと約300Paの間の所定値となるよう制御することとを含む。【選択図】 図3A
請求項（抜粋）：
真空環境において動作する光学要素を熱調節する方法であって、前記光学要素は少なくとも1つの光学面と少なくとも1つの熱伝達面を有する第1の本体を含み、前記第1の本体は位置および/または向きにおいて動的に制御され、前記方法は、
前記第1の熱伝達面の形態に相互補完的な形態の第2の熱伝達面を含む第2の本体の温度を所望の温度に制御することと、
前記第2の本体を前記第1の本体に隣接して位置決めし、前記本体間に接触がない状態で実質的に一定の配置に前記第1および第2の熱伝達面を維持するように位置および/または向きにおいて前記第2の本体を動的に制御することと、
前記第1および第2の熱伝達面によって画定される熱伝達空間内にガスを熱伝達媒体として送出する一方で、前記熱伝達空間内の前記ガスの圧力を約30Paと約300Paの間の所定値となるよう制御することと、
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531A
, G02B7/18 C
2H043BC06
, 5F146GA21
, 5F146GA25
, 5F146GA27
, 5F146GB11
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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