特許
J-GLOBAL ID：201103035283893768

薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置

発明者：
藤井 和憲

藤井 和憲 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (2件)： 樺山 亨 ,  本多 章悟
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-288430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-108832
特許番号：特許第4009044号
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に斜め方向から蒸発物質を入射させて形成した斜め蒸着膜を有し、上記斜め蒸着膜は膜厚及び複屈折量が制御された単層膜構造の蒸着膜である薄膜複屈折素子を作製する際の薄膜複屈折素子の製造方法であって、 1以上の基板を保持した円盤状の基板ホルダーを自転運動と公転運動からなる遊星回転機構で保持し、上記遊星回転機構により上記基板ホルダーを自転しながら上記蒸着装置内を公転運動させ、上記基板ホルダーで保持された1以上の基板を、蒸発物質を蒸発させる蒸発源の上部で半円状の軌跡を描くような回転運動で移動させるとともに、上記基板ホルダーと上記蒸発源の間の基板ホルダー近傍に開口部を有する遮蔽板を配置した状態で、上記蒸発源と、上記蒸発装置内にプラズマ状態を形成するプラズマ源もしくはイオン源を用いて蒸発物質をイオン化して基板方向に飛翔させ、上記遮蔽板の開口部を介して基板上に斜め方向から蒸発物質を入射させて斜め蒸着膜を形成することを特徴とする薄膜複屈折素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  C23C 14/24 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G02B 5/30 ,  C23C 14/24 U
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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